El regulador de presión de gas de alta presión 25MPA se usa para gases tóxicos corrosivos de laboratorio Imagen destacada

El regulador de presión de gas de alta presión 25MPA se utiliza para gases tóxicos corrosivos de laboratorio

Breve descripción:

Características

1. Estructura de detección de pistón de una sola etapa

2. Rango de ajuste de presión de salida más grande

3. Puede usarse para gas estándar y gas no corrosivo

4. Instale un elemento de filtro de 20 micras en la entrada

5. Se pueden proporcionar opciones de aplicación de entorno de oxígeno

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Descripción del producto

Características

1. Estructura de detección de pistón de una sola etapa

2. Rango de ajuste de presión de salida más grande

3. Puede usarse para gas estándar y gas no corrosivo

4. Instale un elemento de filtro de 20 micras en la entrada

5. Se pueden proporcionar opciones de aplicación de entorno de oxígeno

Anterior: Válvula de diafragma neumática de acero inoxidable de gas de alta pureza 1/4 de pulgada de alta presión

Próximo: AFK Acero inoxidable 1/4 pulgada 3/8 pulgada 1/2 pulgada Válvula de seguridad de gas industrial

Especificación del regulador de presión de gas

Datos técnicos

1. Presión de entrada máxima: 4500 psi o 6000 PSI

2. Rango de presión de salida: 0 ~ 1500,0 ~ 3000

3. Material de los componentes internos:

Asiento de válvula: PCTFE

Pistón: 316L

Junta tórica: FKM

Elemento filtrante: 316L

4. Temperatura de trabajo: – 26 ℃ ~ + 74 ℃ (- 15 ℉ ~ + 165 ℉)

5. Tasa de fuga (helio): Interior: sin burbujas visibles Exterior: sin burbujas visibles

6. Coeficiente de caudal (CV): 0,09

7. Puerto principal: Entrada: 1 / 4NPT Salida: 1 / 4NPT Puerto del manómetro: 1 / 4NPT

R41	L	B	B	D	G	00	00	P
Artículo	Material del cuerpo	Agujero del cuerpo	Presión de entrada	Presión de salida	Manómetro	Tamaño de entrada	Tamaño de salida	Opciones
R41	L:316	A	B: 6000 psig	D:0~3000psig	G: calibre MPa	00:1/4″NPT(F)	00:1/4″NPT(F)	P: montaje en panel
	B: latón	B	D: 4500 psig	mi: 0 ~ 1500 psig	P:Manómetro de psig/bar	00:1/4″NPT(M)	00:1/4″NPT(M)
		D		F:0~500psig	W: sin calibre	10:1/8″ DE	10:1/8″ DE
		G		G: 0 ~ 250 psig		11:1/4″ DE	11:1/4″ DE
		J				12:3/8″ DE	12:3/8″ DE
		M				15:6 mm” DE	15:6 mm” DE
						16:8 mm” DE	16:8 mm” DE

Técnicas de limpieza

Estándar (WK-BA)
Los accesorios soldados se limpian de acuerdo con nuestras especificaciones estándar de limpieza y embalaje.
No es necesario agregar sufijos al realizar el pedido.
Limpieza de oxígeno (WK - O2)
Las especificaciones para la limpieza y el envasado de productos para entornos de oxígeno están disponibles.
Esto cumple con los requisitos de limpieza ASTM G93 Clase C.Al realizar el pedido, agregue -O2 al final del número de pedido.

Industrias involucradas

LCD TFT

Los gases especiales de proceso utilizados en el proceso de deposición CVD del proceso de fabricación de TFT-LCD son silano (S1H4), amoníaco (NH3), fosfina (PH3), óxido nitroso (N2O), NF3, etc. Además, hidrógeno de alta pureza y alta nitrógeno puro y otros gases a granel también están involucrados en el proceso.El argón se utiliza en el proceso de pulverización catódica, y el gas formador de película pulverizado es el material principal para la pulverización catódica.Primero, se requiere que el gas formador de película no pueda reaccionar con el objetivo, y el gas más apropiado es el gas inerte.También se utilizará una gran cantidad de gas especial en el proceso de grabado, mientras que el gas especial electrónico es en su mayoría inflamable, explosivo y altamente tóxico, por lo que los requisitos para el circuito de gas y la tecnología son muy altos.Wofei Technology se especializa en el diseño e instalación de sistemas de transmisión de gas especiales de ultra alta pureza.

Los gases especiales se utilizan principalmente en procesos de formación de películas y grabado en seco en la industria de LCD.Hay muchos tipos de LCD, entre los cuales TFT-LCD es la tecnología LCD más utilizada debido a su rápido tiempo de respuesta, alta calidad de imagen y costo gradualmente más bajo.El proceso de fabricación del panel TFT-LCD se puede dividir en tres etapas: conjunto de matriz frontal, celda intermedia y módulo posterior.El gas especial electrónico se utiliza principalmente en las etapas de formación de película y grabado en seco del proceso de matriz frontal.Después de múltiples procesos de formación de películas, las películas no metálicas y películas metálicas de SiNx, como rejilla, fuente, drenaje e ITO, se depositan respectivamente sobre el sustrato.

1. ¿Quiénes somos?

Estamos ubicados en Guangdong, China, a partir de 2011, vendemos al Sudeste Asiático (20,00%), África (20,00%), Asia Oriental (10,00%), Medio Oriente (10,00%), Mercado Nacional (5,00%), Sur de Asia (5,00 %), Europa del Norte (5,00 %), América Central (5,00 %), Europa Occidental (5,00 %), América del Sur (5,00 %), Europa del Este (5,00 %), América del Norte (5,00 %).Hay un total de 51-100 personas en nuestra oficina.

2. ¿Cómo podemos garantizar la calidad?

Siempre una muestra de preproducción antes de la producción en masa;Inspección siempre final antes del envío;

3. ¿Qué puedes comprarnos?

regulador de presión, accesorios de tubo, válvula solenoide, válvula de aguja, válvula de retención

4. ¿Por qué debería comprarnos a nosotros y no a otros proveedores?

Tenemos un par de años con ingenieros profesionales y técnicos dedicados. Podemos proporcionarle productos de seguridad.

5. ¿Qué servicios podemos proporcionar?

Términos de entrega aceptados: FOB, CIF, EXW;

Moneda de pago aceptada: USD, CNY;

Tipo de pago aceptado: T/T, L/C, Western Union;

Idioma hablado: inglés, chino

Escribe aquí tu mensaje y envíanoslo