Válvula de diafragma neumática de acero inoxidable de gas de alta pureza 1/4 de pulgada de alta presión
Descripción del producto
Especificación de la válvula de diafragma neumática
| Datos técnicos | ||
| Tamaño del puerto | 1/4″ | |
| coeficiente de descarga (Cv) | 0.2 | |
| Presión máxima de trabajo | Manual | 310 bares (4500 psig) |
| Neumático | 206 bares (3000 psig) | |
| Presión de trabajo del actuador neumático | 4,2~6,2 bares (60~90 psig) | |
| temperatura de trabajo | PCTFE:-23~65 ℃ (-10~150 ℉) | |
| Tasa de fuga (helio) | en el interior | ≤1×10-9 mbar l/s |
| externo | ≤1×10-9 mbar l/s | |
| Datos de flujo | ||
| aire a 21 ℃ (70 ℉) agua a 16 ℃ (60 ℉) | ||
| Caída de presión de la barra de presión de aire máxima (psig) | aire (lmin) | agua (l/min) |
| 0.68 (10) | 64 | 2.4 |
| 3.4 (50) | 170 | 5.4 |
| 6.8 (100) | 300 | 7.6 |
Proceso de limpieza
▶estándar (WK-BA)
Todas las uniones soldadas se limpiarán de acuerdo con las especificaciones estándar de limpieza y embalaje de la empresa.
Al realizar el pedido, no es necesario agregar sufijo
▶Limpieza de oxígeno (WK-O2)
Se pueden proporcionar especificaciones de limpieza y embalaje del producto para el entorno de oxígeno.Este producto cumple con los
requisitos de limpieza astmg93c.Al realizar el pedido, agregue – O2 después del número de pedido
▶ Ultra alta pureza (WK-EP)
Puede proporcionar un acabado superficial controlado, electropulido Ra0 trece μ m.desionizado
limpieza ultrasónica de agua.Para ordenar, agregue – EP después del número de orden
Todas las uniones soldadas se limpiarán de acuerdo con las especificaciones estándar de limpieza y embalaje de la empresa.
Al realizar el pedido, no es necesario agregar sufijo
▶Limpieza de oxígeno (WK-O2)
Se pueden proporcionar especificaciones de limpieza y embalaje del producto para el entorno de oxígeno.Este producto cumple con los
requisitos de limpieza astmg93c.Al realizar el pedido, agregue – O2 después del número de pedido
▶ Ultra alta pureza (WK-EP)
Puede proporcionar un acabado superficial controlado, electropulido Ra0 trece μ m.desionizado
limpieza ultrasónica de agua.Para ordenar, agregue – EP después del número de orden
 | Principales materiales estructurales | ||
| Número de serie | elemento | textura de material | |
| 1 | Encargarse de | aluminio | |
| 2 | Solenoide | aluminio | |
| 3 | Vástago de válvula | 304 acero inoxidable | |
| 4 | Capó | S17400 | |
| 5 | Tuerca de capó | acero inoxidable 316 | |
| 6 | Botón | latón | |
| 7 | diafragma (5) | Aleación de níquel cobalto | |
| 8 | asiento de válvula | PCTFE | |
| 9 | cuerpo de la válvula | acero inoxidable 316L | |
Dimensiones e información de pedido
Tipo directo
Talla
Las dimensiones están en pulgadas (mm) es solo para referencia
Talla
Las dimensiones están en pulgadas (mm) es solo para referencia
| Número de pedido básico | Tipo y tamaño de puerto | tamaño pulg. (mm) | |||
| A | B | C | L | ||
| WV4H-6L-TW4- | Tubo de 1/4″ -W | 0,44 (11,2) | 0,30 (7,6) | 1,12 (28,6) | 1,81 (45,9) |
| WV4H-6L-FR4- | 1/4″ FA-MCR | 0,44 (11,2) | 0,86 (21,8) | 1,12 (28,6) | 2,85 (72,3) |
| WV4H-6L-MR4- | 1/4″ MA-MCR1/4 | 0,44 (11,2) | 0,58 (14,9) | 1,12 (28,6) | 2,85 (72,3) |
| WV4H-6L-TF4- | OD | 0,44 (11,2) | 0,70 (17,9) | 1,12 (28,6) | 2,85 (72,3) |
Industrias involucradas
LCD TFT
Los gases especiales de proceso utilizados en el proceso de deposición CVD del proceso de fabricación de TFT-LCD son silano (S1H4), amoníaco (NH3), fosfina (PH3), óxido nitroso (N2O), NF3, etc. Además, hidrógeno de alta pureza y alta nitrógeno puro y otros gases a granel también están involucrados en el proceso.El argón se utiliza en el proceso de pulverización catódica, y el gas formador de película pulverizado es el material principal para la pulverización catódica.Primero, se requiere que el gas formador de película no pueda reaccionar con el objetivo, y el gas más apropiado es el gas inerte.También se utilizará una gran cantidad de gas especial en el proceso de grabado, mientras que el gas especial electrónico es en su mayoría inflamable, explosivo y altamente tóxico, por lo que los requisitos para el circuito de gas y la tecnología son muy altos.Wofei Technology se especializa en el diseño e instalación de sistemas de transmisión de gas especiales de ultra alta pureza.
Los gases especiales se utilizan principalmente en procesos de formación de películas y grabado en seco en la industria de LCD.Hay muchos tipos de LCD, entre los cuales TFT-LCD es la tecnología LCD más utilizada debido a su rápido tiempo de respuesta, alta calidad de imagen y costo gradualmente más bajo.El proceso de fabricación del panel TFT-LCD se puede dividir en tres etapas: conjunto de matriz frontal, celda intermedia y módulo posterior.El gas especial electrónico se utiliza principalmente en las etapas de formación de película y grabado en seco del proceso de matriz frontal.Después de múltiples procesos de formación de películas, las películas no metálicas y películas metálicas de SiNx, como rejilla, fuente, drenaje e ITO, se depositan respectivamente sobre el sustrato.
Q1.¿Qué pasa con el tiempo de entrega?
R: La muestra necesita de 3 a 5 días, el tiempo de producción en masa necesita de 1 a 2 semanas para una cantidad de pedido superior a
Q2.¿Tiene algún límite de MOQ?
R: MOQ bajo 1 foto.
Q3.¿Cómo se envía la mercancía y cuánto tarda en llegar?
R: Enviamos generalmente por DHL, UPS, FedEx o TNT.Por lo general, toma 5-7 días.Envío aéreo y marítimo también opcional.
Q4.¿Cómo proceder con un pedido?
R: En primer lugar, háganos saber sus requisitos o aplicación.
En segundo lugar cotizamos según sus requisitos o nuestras sugerencias.
En tercer lugar, el cliente confirma las muestras y coloca el depósito para el pedido formal.
En cuarto lugar organizamos la producción.
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